Μια τέτοια εξέλιξη φαίνεται να επαναφέρει τον "Νόμο του Moore" ξανά στην επικαιρότητα. Με χρήση της τεχνολογίας Extreme Ultra-Violet lithography (γνωστής με το ακρωνύμιο EUV), η κατασκευή chips στα 5nm χρησιμοποιεί FinFET transistors με βελτιώσεις στην ταχύτητα, στην ενεργειακή απόδοση και στην πυκνότητα σε σχέση με τα 7nm. Η ταχύτητα αναμένεται να αυξηθεί κατά 15%, ενώ η πυκνότητα θα βελτιωθεί κατά 80%. Επίσης η νέα τεχνολογία θα προσφέρει 30% μείωση στην κατανάλωση ενέργειας. Σημειώνεται ότι η τεχνολογία αναμένεται να χρησιμοποιηθεί από mobile κατασκευαστές αρχικά, καθώς η Intel χρησιμοποιεί τα δικά της fabs και ακόμα προσπαθεί να πετύχει τα 10nm, ενώ η AMD έχει "κλειδώσει" στα 7nm+ για την επόμενη γενιά Zen και RDNA.
0 Post a Comment:
Δημοσίευση σχολίου